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                  光學鍍膜中薄膜材料的選擇

                  2021-03-26 10:06:31

                  對于具有不同波長的薄膜系統,需要選擇薄膜材料進行電鍍。薄膜材料的類型很多。一般而言,在選擇薄膜材料時,應考慮材料的透明度,折射率和消光系數,機械強度,化學穩定性和抗輻射性。本文中光學膜的工作波長為1064 nm,應選擇在此范圍內具有高透明度的介質材料。材料的折射率也是一個非常重要的參數,主要受幾個因素的限制,例如材料的類型,作用的波長,晶體結構,濃度密度和薄膜的組成。每種材料的折射率都有一個變化范圍。希望該范圍內的折射率穩定且均勻。

                  光學鍍膜定制

                  一般而言,折射率大致按以下順序增加:氟化物,氧化物,硫化物和半導體材料。對于高性能抗反射涂層和激光反射涂層,任何小的光學損耗都不能忽略。在該波段區域,低折射率材料的消光系數比高折射率材料的消光系數低1-2級。理想的薄膜具有較高的牢固性及耐久性,這就要求薄膜材料具有良好的機械性能及化學穩定性。對于高溫、高能激光薄膜,應著重考慮高輻射能量對薄膜的破壞性。從激光損傷的角度來看,關鍵是選用吸收系數較小的膜料。光學薄膜使用環境要求材料抗高能輻射,故選擇氧化鉿(HfO2)、三氧化二鋁(Al2O3)、二氧化硅(SiO2)和氟化鎂(MgF2)作為高低折射率材料,這些材料目前被公認為具有更高的能量破壞閾值,更好的機械穩定性和熱穩定性的材料,具有從紫外線到紅外的寬透明區域,在高溫條件下具有堅固的膜層,并且還具有良好的抗輻射性。


                  選擇二氧化硅(SiO2)和氟化鎂(MgF2)作為高折射率材料和低折射率材料。這些材料目前被公認為具有更高的能量破壞閾值,更好的機械穩定性和熱穩定性的材料,具有從紫外線到紅外的寬透明區域,在高溫條件下具有堅固的膜層,并且還具有良好的抗輻射性。


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